右下７，６にXive インプラントが２本植立されています。頬側歯頸部歯肉は少し退縮し、ラフサーフェイスが少々露出しています。
デンタルX線写真で歯槽骨が水平的に吸収している状態が認められます。
実はインプラント部の歯槽骨の水平的な吸収は３年半前の上部冠作成時に既に認めていました。
これはインプラント埋入と同時に垂直的な骨造成を同時に施行したところ、オッセオインテグレーションを獲得する前に骨補填材が失われ、骨の垂直的高さが減少したことに拠ります。
トランスファーコーピング装着時に既にプラットフォームが歯槽骨縁レベルより上方に位置していることがわかります。
Xive インプラントは本来ボーンレベルインプラントですが、インプラント植立時からティッシュレベルインプラントとして機能していたことになります。
この状態でも特に問題なく経過しています。
ボーンレベルインプラントは少し浅く埋めるとマイクロギャップが骨縁上に位置することになり、骨レベルの安定につながるということです。
